TARGETSYSTEM

　　TARGETSYSTEM

　　用于可见目标和隐藏目标的自动目标制备

　　TargetSystem 特性

　　显著缩减制备时间

　　不受操作人员技能影响

　　完美的再现性

　　无需成本昂贵的磨料薄膜

　　TargetSystem 设计用于微电子组件和扁平化目标制备。这是第一款失效分析工具，可对可见目标和隐藏目标进行实时对齐和测量，例如微型穿孔和 BGA。系统精度高达 +/- 5 μm。

　　优势

　　较短的制备时间

　　智能制备系统 (IPS) 可根据实际样品属性和研磨/抛光表面自动调整消除时间和速率。这意味着可将测量和制备时间缩减至 30 分钟以内。

　　再现性

　　自动化工艺使得 TargetSystem 不受操作人员技能的影响，无论何人操作都可确保再现性。

　　降低运行成本

　　TargetSystem 可与任何 SiC 纸或其他耗材配合使用，无需成本昂贵的研磨薄片。

　　机型号

　　TargetSystem

　　TargetMaster

　　适用于自动目标制备的 200 mm 微型抛光机。适用于 30 mm 试样并且包括 200 mm MD-Disc 的可翻转夹具。

　　加液系统需要单独订购。

　　Struers 设备符合适用的国际指令及其从属标准的规定。由于 Struers 产品将会不断进行产品开发，因此，我们有权对我们的产品进行任何变更，恕不另行通知。